范文一:蓝色氧化钨 英文
Blue Tungsten Oxide (BTO)
Formula: H0.5WO3
Physical & Chemical Properties :
> Finely divided blue-violet crystalline powder
> It is produced by rotary calcining ammonium paratungstate at closely controlled temperatures in a reducing atmosphere.
Applications:
Blue tungsten oxide is used primarily for the production of tungsten metal powder and tungsten carbide.
Production Technology:
Blue tungsten oxide (BTO) is also called tungsten blue oxide (TBO). TBO is
manufactured by calcination of APT under more or less reducing conditions which vary from producer to producer. It is not a chemically defined compound, but consists of
various different constituents, like trioxide, tungsten bronzes and different lower tungsten oxides. The relative amount of these compounds in TBO depends on the calcination parameters.
TBO is the most important precursor in the line from oxide to W and WC powder. The colour varies between deep dark blue to blue, faint blue and green blue. Also the TBO particles are pseudomorphous to the original APT crystals, as described for tungsten trioxide.
范文二:【doc】蓝色氧化钨的光电子能谱研究
蓝色氧化钨的光电子能谱研究 ?
第39卷第5期
1990年5月
物理
ACTApHYSICASINICA
'扎39.No.5
M卵,1990
蓝色氧化钨的光电子能谱研究
谢侃齐上雪伍乃娟林彰达
中国科学院物理研究所,北京,1090B0
19B9年7月14日收到
本文用光电子能蜡技术对蓝色氧化钨的表面价志进行了一系列研究.结果表明;蓝色氧
化钨并不是单一价悫的氧化钨,而是由w和w"两种价态组成.氩离子刻蚀,真空高温处
理都是一个失氧还原过程,也是钨由高价悫向低价森的转变过程.同时,费密能级附近的态
密度随着价态变低而逐渐增加.
PACC16820
一
,引言
蓝色氧化钨(以下简称蓝钨)是采用仲钨酸铵经过390--430'~C,的轻度还原而成.所 谓蓝钨并没有统一的分子式,一般可写成WO"或WO,蓝钨比表面大,活性好,利于 掺杂.为制取不同粒度的钨粉可进行适当掺杂,又称掺杂蓝钨.蓝钨和掺杂蓝钨是还原
钨粉的重要原料,所以,钨粉乃至钨丝质量的优劣,高温稳定性,抗下垂性能都与蓝
钨的性
能有很大关系.为此,许多科学工作者对蓝钨做了大量的研究.蓝钨在室温下对氧的
吸附作用并不显着,但温度升高到300*(3以上时,就有很强的吸氧能力,这时,w.本身
被氧化成w03.WO:,的这种特性旅用来作为电真空器件中的消气剂. 本文将利用光电子能谱技术对从钨矿制取钨粉过程中蓝钨的化学价态变化进行系统
的分析研究.
二,实验条件
将生产过程中取样的蓝钨粉末压成llmm的圆片,送进ESCALAB一5多功能光电 子谱仪中,本底真空为2×10-L0mbar.XP$测试采用AI/Mg双阳极,电压为12kV,电 流为20mA.电子倍增器电压用在工作曲线的平台区.能量分析器的扫描模式为CAE,
仪器的能量误差小于4-0.1eV.离子溅射采用冷阴极的离子枪,束斑大于6ram,离子束
能量连续可调.
三,实验结果与讨论
1.室温蓝钨的价态分析
为使样品去气和消除表面缓慢氧化带来的影响,首先将样品在超高真空室中放置
810物理
12h,然后在分析室内用0.8kV的氩离子刻蚀2min,再将样品移至进样室,在latrn压 力下暴露纯氧2rain,再进入预处理室内加热至500~C,保温1.5h,此时样品的表面称为
.清洁表面".
对工业还原过程中不同还原条件的一系列蓝钨样品进行了光电子能谱分析,结果表
明,放在空气中的蓝钨如果分析前不经任何处理所铡的W4f7/2(E?一35.5eV)与
三氧化
钨中的W4f7/2蜂基本相同,对蓝钨进行"清洁表面"处理后,蓝钨的W4f蜂在低结合能
端明显变宽,即出现低于六价钨的新氧化钨.用AppleII计算机将W4f峰进行解谱,可
以分解为w与w"的两组峰,其中w"约占总量的牛d%,见图1.图1清楚地表 明,由于缺氧造成蓝钨的化学价态有一部分降低,变为w"与W+o两种价态共存的氧
化钨.
在蓝钨中掺人少量的KtO,SiO和Al:q,添加剂的作用在于si—A1—K的复台怍 用,si—AI的作用在于促进—w的形成,K进人到w的晶格中,在高温烧结时,钨条中
残留有K,从而保证了钨丝的抗下垂性能.由于K:O,SiO,AIO的掺杂量分别小于 0.3%,在XPS的检测灵敏度范围内很难铡出K,si,Al的信号,而对氧峰的检测是包 括了蓝钨,KO,SiOz,AI:O,中的氧,氧的掺杂总量大于0.3%.而且在XPS测试中, 氧的灵敏度因子低,即氧的检测灵敏度高,所以用Ois峰确能测出掺杂的存在见图2中
虚线所示,从图2中可以看出掺杂蓝钨中的Ois为双峰结构,说明氧在掺杂蓝钨中处于
两种不同的化学价态,显示山两个Ols峰的电子能态分布,低能端Ols峰位于530.8eV,
对应于蓝钨中氧的电子态,高能端Ols峰位于533.3eV,对应于因掺杂Bl起的Ois化学
位移.掺杂改变了蓝钨的化学组成,进而影响了钨条或钨丝的加工性能和抗下垂性能.而
添加剂的掺人并没有影响钨的化学价态.
结合能(eV)
图l蓝钨清洁表面的w4f1普
曲线a为五价;曲线b为穴价
1)私^通讯.
培台簦【cV)
圈2蓝钨中Or*谱宴线为未掺杂;
l虚线为巳掺杂
'
?
鼻
5期谢侃等:蓝色氧化钨的光电子船谱研究
毛氢寓手轰击和真空高温退火目I起的氧缺陷
在超高真空系统中利用氩离子划蚀技术可以对样品表面进行清洁处理,即去除表面
污染层,而对于蓝钨这样的粉末样品,经轻微的氩离子轰击即可使样晶表面失去部分氧,
造成表面缺氧,同时使部分钨还原,化学价态变低,使w价态明显的由清洁表面时的w
和w"价氧化钨变为w",w"和w"价共存的氧化钨.表1.给出各种化台价的, W4f7/2的能量位置.实验中解谱的各化合价的峰位能量与表I中所列数值基本相同,
能量醍差约为?0.2eV.
表l
\劳搞W十.+w'
(eV)\
w~t7f231.232.634.535.5
注:w4fT/2与w4fs/2之间的距离为一固定值,一般为2.15ev 为了更仔细地观察由于钨价态变化而引起费密边附近态密度的变化,测量了UPS的
Hel谱,示于图3,其中曲线a表示蓝钨清洁表面的结果,曲线b表示经过0.SkV,氩离子
轰击10rain后蓝钨的结果.从图3曲线b可以看出,氩离子轰击后靠近费密边附近有一
小峰(一03eV)隆起,说明轰击造成费密能级附近的态密度增加,表明了钨的金属 化行为".
在10-*mbar以上的超高真空中退火也碍到类似氩离子爱击的结果.蓝钨的W4f谱
随着温度的升高而向低能端展宽,而六价氧化钨的强度降低,这说明随着温度升岛六价氧
化钨减少而出现低价氧化钨.加热至850T:,I5rain后,蓝钨的颜色由深蓝变为蓝紫色,
这时在326eV处出现四价氧化钨峰,这是由于真空加热处理使蓝钨表面缺氧,氧含量降
姑音担ceV)
图3蓝钨的uPs的HeI谱
曲残a曲蓝清洁表面;曲线b为
0?8kV,钮离f轰击I~rniD
精音艟(eV)
图{B50屯真空退出l5min后蓝鸽的W4f
谱a组为W;b组为w;
c蛆为w+.
物理
低,出现了钨的低价态,使得蓝钨的化学价态由原来的w"和w价变为W",W,W 价组成的氧化钨,图4示出B50~C.真空退火I5rain蓝钨的W4f谱.随着温度继续升高,
处理时间加长,钨将继续还原.表2列出用相对灵敏度因子计算的不同处理温度时蓝钨
表面的氧钨比数据,从表2所列数据可以看出,表面氧含量高于蓝鸨的化学配比,这是由
于蓝钨表面在空气中缓慢吸氧的结果.随着温度不断升高,氧不断释放出来,使得500?
村氧钨比偏高,随着温度升高,相对氧含量降低,实际上真空退火是一个钨的变价与失氧
相伴随的过程,即一个缓慢的钨的还原过程.
表2
遇火温度(屯)2O500650850
表面氧钨比4.424.S{.23.8
四,结论
-
蓝钨是生产W31钨粉的重要原料,蓝钨的价态分析表明,它并不是单一价态的氧化
钨,而是由w"和W6两种价态组成.氩离子轻微刻蚀,真空退火以及工业氢气还原处
理都是一个失氧过程,也是钨由高价态向低价态转变的变价过程,蓝钨的价态可以由两种
变为三种价态组成,这时,费密能级附近的态密度随着钨的价态变低而逐渐增加. 实验所用样品由{胡南省株州钨钼材料厂池秋林同志提供,特此致谢. l】R.Hsubn~ffdf,Im~nattonalJournalRefe~.csovyandHard2(1983).108.
[2】RHaubner,』?曲D,RrectoryandHardMetals,2(i983)Ii56.
【3】昊述尧等,物理,箱(198S),662.
f?】cnWagnerfa/,HandbookofX-l~yPhoh咖蛆Spectroscopy.PublishedbyPerkha—ElmerCorp~
tatioa.Mian~~a.(1978).
?
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5期谢侃等:蓝色氧化钨的光电子能谱i开究81j
PHOTOEMISSIONSTUDIESONTHEBLUE
TUNGSTENO)【工DES
XIEK^NqSHANG-XUEWuNAIqUANL1NZH^Nc—D^
l^IlHl.讲PhyHc*.^c靠…4si矗cn.
B~i~ing,100080
{Recdvedl4Julyl9B9
ATRACT
Aseriesofstudieswereconductedforsurfacevalencyinbluetungstenoxidesbyusingpho.. ~oemissiontechniflue.Rusultsshowthat,thebluetung~tenoxidecontainsnotonlvonekind —
ofvalenc~butconbinationoftwovalences,namelytheconbinationofw'andwandaJso theprocessofargonionechingandhightemperaturetreatmental1inducetheJossofoxygen inW-chemicalreductionprocess,whichcausesWtransferfromhighvalencetolowvalence. Meanwhile,thedensityofStateneaIFermilevelincreaseswiththechangefromhighvafenceto
lowvalence.
PACC:6820
范文三:2011年中国蓝色氧化钨出口分析及企业调研咨询报告
2011年中国蓝色氧化钨出口分析及企业调研
咨询报告
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一、调研说明
中商情报网全新发布的《2011年中国蓝色氧化钨出口分析及企业调研咨询报告》主要依据国家统计局、国家发改委、商务部、中国海关、国务院发展研究中心、行业协会、工商、税务、海关、国内外相关刊物的基础信息以及行业研究单位等公布和提供的大量资料,结合深入的市场调研资料,由中商情报网的资深专家和研究人员的分析。首先,报告对本行业的特征及国内外市场环境进行描述,其次,对本行业的上下游产业链,市场供需状况及竞争格局等进行了细致的详尽剖析,接着报告中列出数家该行业的重点企业,并分析相关经营财务数据。最后,对该行业未来的发展前景,投资风险及投资策略给出科学的建议。本报告是行业生产、贸易、经销等企业在激烈的市场竞争中洞察市场先机,根据市场需求及时调整经营策略,为战略投资者选择恰当的投资时机和公司领导层做战略规划提供了准确的市场情报信息及科学的决策依据。
报告名称 2011年中国蓝色氧化钨出口分析及企业调研咨询报告
出版日期 动态更新
报告格式 PDF电子版或纸介版
交付方式 Email发送或EMS快递
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电子版6800元
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二、报告目录
目 录
第一章 2011年1-12月蓝色氧化钨出口现状分析
一、2011年1-12月蓝色氧化钨出口总量分析
二、2011年1-12月蓝色氧化钨出口价格变动趋势分析
三、2011年1-12月蓝色氧化钨出口来源地
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四、2011年1-12月蓝色氧化钨国内主要出口地区 第二章 2011年蓝色氧化钨出口企业排名
一、2011年蓝色氧化钨出口企业排名(按数量)
二、2011年蓝色氧化钨出口企业排名(按金额)
三、2011年蓝色氧化钨出口企业市场份额分析 第三章2011年蓝色氧化钨出口企业分析
一、企业1
1、该企业出口数量
2、该企业出口金额
3、该企业出口流向
二、企业2
1、该企业出口数量
2、该企业出口金额
3、该企业出口流向
三、企业3
1、该企业出口数量
2、该企业出口金额
3、该企业出口流向
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四、企业4
1、该企业出口数量
2、该企业出口金额
3、该企业出口流向
五、企业5
1、该企业出口数量
2、该企业出口金额
3、该企业出口流向
六、企业6
1、该企业出口数量
2、该企业出口金额
3、该企业出口流向
第四章 2011年1-12月蓝色氧化钨出口企业数据库(EXCL格式)
主要包括:
企业名称,联系人,企业地址,邮政编码,联系电话,传真号等 图表目录
图表 12011年1-12月中国蓝色氧化钨出口数量统计
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图表 22011年1-12月中国蓝色氧化钨出口金额统计
图表 32011年1-12月中国蓝色氧化钨出口价格统计
图表 42011年1-12月中国蓝色氧化钨出口流向情况
图表 52011年1-12月中国蓝色氧化钨出口分口岸统计
备注:本报告2012年可以按月度提供,详情请咨询。
访问中商情报网:http://www.askci.com
报告在线阅读:
http://www.askci.com/reports/201203/22145617153531.shtml
三、研究机构
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福。
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范文四:蓝色氧化钨氢还原制取超细钨粉的工艺研究
蓝色氧化钨氢还原制取超细钨粉的工艺研究
吴晓东 ,傅小明 ,柴永新 ,傅明喜 ,戴起勋
()江苏大学材料科学与工程学院 ,江苏 镇江 212013
摘 要 : 以蓝钨为原料 ,通过氢还原制取超细钨粉末 ,研究了还原温度 、装舟量和氢气流量对制取钨粉粒度的影响 。
结果表明 :还原温度是制取超细钨粉的关键因素 ,在适当的工艺条件下 ,可以使用蓝钨制得超细钨粉 。
关键词 : 蓝钨 ;氢还原 ;超细钨粉
() 中图分类号 : TF 123172 文章编号 : 1004 - 0536 200501 - 0014 - 04 文献标识码 : A
Research on the Hydrogen Reduction of Ultra - fine W - Powders
from Blue Tungsten Oxide
WU Xiao - dong ,FU Xiao - ming ,CHAI Yong - xin ,FU Ming - xi ,DAI Qi - xun
()J iangsu University ,Zhenjiang 212013 ,China
Abstract :Ultra - fine tungsten powder is prepared by hydrogen reduction from blue tungsten oxide . Research is made on the effect of temperature ,boat charge and hydrogen flowrate on granularity of W - powder . The results showed that reduc2 tion temperature is critical for the preparation of ultra - fine W - powder from blue tungsten oxide under appropriate tech2 nological conditions.
Key words :blue tungsten oxide ; hydrogen reduction ; ultra - fine W powder
随着科学技术发展 ,硬质合金作为一种重要的 WO或由 APT 所得出的蓝钨作 论用钨酸所得出的 2. 9
工具材料和结构材料 ,在众多领域发挥着显著的作原料均适宜于细钨粉的制取 ; 用钨酸所得三氧化钨 1 ,2 用。但它属于脆性材料 , 其硬度和强度之间存 作原料时 ,很难只通过调整还原工艺参数来控制钨 在着矛盾 ,常规的 WC 基硬质合金工具材料不能满 粉粒度 ,此时原料特性对钨粉粒度的影响占压倒优
9 势。有关资料也表明 ,蓝钨是当前制取钨粉最为 足现代工业发展的需要 ,这就要求开发具有高硬度 、
高强度和高耐磨性细颗粒的硬质合金 。细颗粒硬质 广泛的原材料 ,用氢气还原蓝钨制取细钨粉时 ,钨粉
合金的主要原料是细钨粉 ,因此钨粉的粒度和均匀粒度的变化主要与还原温度 、还原时间 、装舟量 、氢
10 性成为制取亚微米硬质合金的关键 ; 而生产超细钨 气流量 、炉内气氛的干湿程度等因素有关。 粉又对氧化钨原料提出了越来越高的要求 ,特别是 本研究选择蓝钨为原料进行制取超细钨粉的试
3 ,7 在原料的纯度和均匀性方面。 验 ,为利用蓝钨制备超细钨粉提供有关的工艺参数
和条件 。何种原料最适合生产超细钨粉目前还在研究
中 ,但是原料的性能会直接影响到其后的还原行为
蓝钨氢还原的热力学基础 1 和最终钨粉的性能 。Lardner 和 Iggstron 推荐使用钨
8图 1 为钨氧化物氢还原 1g K与 1/ T 关系曲线 。 p 酸 ,虽然钨酸由于其粒度细而均匀适合细钨粉生
产 ,但要制得高纯钨酸成本相当高 。陶正己指出 ,无 通过对钨还原的化学平衡研究发现 , 蓝钨氢还原一
收稿日期 :2004 - 07 - 01 ;修回日期 :2004 - 07 - 22
基金项目 :江苏大学高级人才启动基金项目 (1683000044) ;江苏大学微纳米科学技术研究开发基金资助项目
作者简介 :吴晓东 (1969 - ) ,男 ,高级工程师 ,博士 ,主要研究方向为冶金材料与工艺 。
第 1 期 吴晓东 ,等 :蓝色氧化钨氢还原制取超细钨粉的工艺研究 15
般要经历以下变化 : WO?WO?WO?W 。但 2. 9 2. 72 2
实践表明 ,由于受到控制条件的影响 ,该过程的反应 机理十分复杂 ,主要受还原温度 、氢气湿度等因素的 影响 。
当还原反应温度在 600 ?左右时 ,蓝钨在干氢 气还原过程中的的主要相成分变化为 WO?W ,即 2. 9
αβ反应主要以从 WO到 - W 和 - W 的直接方式 进2. 9
行 ,可以制得细钨粉 ;当还原反应温度高于 800 ? 时 ,蓝钨在氢气还原过程中的主要相成分变化为 : WO?WO?WO?W ,将产出 WO和 WO晶 2. 9 2. 72 2 2. 72 2 体 ,致使还原所得的钨粉变粗 。因此 ,在使用蓝钨氢 还原直接制取细钨粉的过程中 ,应严格控制还原工 艺条件 ,避免产出 WO,实现以 WO为原料直接 2. 72 2. 9
制取细钨粉 。
图 1 钨氧化物氢还原 1g Kp 与 1/ T 关系
) 算,表 1 为蓝钨中各杂质元素的最大含量 。蓝钨的 3 2 试样制备与试验方法 松装密 度 为 2 . 4 , 2 . 8 g/ cm; 费 氏 粒 度 为 12 , 20
μm ;霍尔流动性为 25 ,40 s/ 50 g ; 过筛的筛网孔径 2 . 1 试样制备
为 01280 mm 。 试验所用蓝钨主要相成分 WO的含量为 35 % 2. 9
使用单管还原炉进行蓝钨氢还原工艺试验制取( ,85 % ,其中钨含量为 79 . 2 %,8010 % 按差减法计
- 6w/ 10 表 1蓝钨中各杂质元素的含量
Al Ca Co Mg Na P Sb Ti As Cd Cu Mn Ni Pb Si V Bi Cr Fe Mo K S Sn
5 7 5 5 7 7 2 5 7 1 1 5 5 1 10 5 1 5 10 20 10 7 1
?。氢气的露点 超细钨粉 ,最高工作温度为 1 000 ,完全可以制取超细钨粉 , 过程的工艺条件控制适当
小于 - 40 ?,纯度为 99 . 99 % 。而且所制取的钨粉粒度分布比较均匀 。
2. 2 试验方法 表 2 有关工艺参数对钨粉粒度的影响 ( ) 用 J XA —840A 电子探针扫描仪 SEM对研磨后 升温速度 氢气流量 还原温度 装舟量 钨粉粒度 的钨粉进行形貌分析 ;用 BT —9300 激光粒度分析仪 编号 - 1- 1μ? m ?m?in mLm?in g 对研磨后的钨粉进行晶粒尺寸分析 。 800 30 10 100 1 . 122 A 750 15 5 150 0 . 674 B 结果与讨论 3 650 30 10 100 0 . 402 C 在蓝钨质量稳定的前提下 ,还原工艺条件对钨
D 650 15 5 150 0 . 318 粉的粒度起着决定性作用 。蓝钨氢还原制取细钨粉 过程中 ,必须严格控制还原温度 、升温速度 、氢气流
还原温度与升温速度3. 1 量 、氢气湿度 、料层厚度 、推舟速度 、装舟量等因素 。
由于氢还原钨氧化物过程属于气固多相反应类 随着工艺条件的变化 ,钨粉的粒度也相应变化 。本
,因此气相的迁移速度直接影响反应速度的快慢 型 研究主要探讨了氢还原时还原温度 、升温速度 、装舟
与最终的产物形貌 。还原温度越高 ,反应速度越快 ,量 、氢气流量对颗粒形貌的影响 ,实验工艺参数及结
气相迁移越剧烈 ,则越促进粉末的烧结与再结晶 ,致 果见表 2 ,实验制取的研磨态钨粉的颗粒形貌见图
( 使粉末生成粉末团粒 ,使钨粉颗粒易粗化 。相反 ,还 2 ,试验制取的研磨态钨粉的粒度分布见图 3 以工
) 原温度低 ,升温过程较平缓时 ,反应速度适中 , 气相艺条件 D 为例。从上述数据可以看出 , 只要还原
33 卷 有 金 属 与 硬 质 合 金 第 16 稀
?图 2 用蓝钨制取的研磨态钨粉的 SEM 形貌
? 图中 A 、B 、C、D 为表 2 中对应工艺编号
?所得钨颗粒粒度的一 原得到的钨颗粒粒度是 750
半 。从图 2 中也可以看到这样的结果 ,在其他条件
都相同的情况下 ,还原温度低 ,制取钨粉就细 。综合
比较可以得知 ,还原温度是制取超细钨粉的关键因
素 。另外 ,从图 3 中可以看出 ,还原温度低 ,制取钨
粉的粒度分布也更均匀 , 在 D 工艺条件下 , 所制取
μ钨粉的粒度主要集中分布在 0 . 2,0 . 5 m , 这对获
得高质量的硬质合金十分有利 。
3. 2 装舟量
?装舟量的多少也会对还原钨粉的粒度产生影 3 研磨态钨粉的粒度分布 图
? 以工艺条件 D 为例 响 。装舟量大 ,则料层厚度增大 ,不利于还原时产生 迁移平稳 ,反应生成的水蒸气易于扩散逸出 ,更有利 的水蒸气扩散逸出 ,钨氧化物与水蒸气的作用机会 于制取细钨粉 。 增大 ,致使粉末变粗 。比较表 2 的数据可以看出 ,装
从表 2 可知 ,还原温度低 ,则所得钨粉的粒度也 舟量越大 ,料层越厚 ,所制得的钨粉粒度越粗 ,因此较细 ,其原因是蓝钨在较低温度氢还原时 ,大部分蓝 为了生产细钨粉 ,在条件允许的情况下应适当减少
α钨经 WO?- W 反应途径直接得到细钨粉 ,部分 2. 9 装舟量 。
α 蓝钨经 WO?WO?- W 反应途径 ,且中间产物 2. 9 2 3. 3 氢气流量
WO的粒度较细并高度分散 ,故最终得到的钨粉也 2 由于蓝钨氢还原过程属于气固多相反应类型 , 细 。而还原温度高 ,升温速度快 ,导致反应中所产生 当还原反应在低温下进行时 ,如果增大氢气流量 ,气 的水分多 ,使 WO容易烧结与再结晶 , 所得钨粉粒 2 氛中水蒸气的蒸气压降低 ,反应生成的水蒸气较容 度也较粗 。如在其他条件相同的情况下 ,650 ?还
第 1 期 吴晓东 ,等 :蓝色氧化钨氢还原制取超细钨粉的工艺研究 17
commercial analysisJ . International Journal of Powder Metal 2 易向外扩散 ,则制取的钨粉粒度减小 ,从表 2 和图 2
() lurgy ,1998 ,34 6:33. 中均可以看到这样的结果 。张 凤 林 , 等 . 纳 米 硬 质 合 金 进 展 J . 稀 有 金 属 , 2002 , 26 4
() 1: 541 结 论 4
Schubert W S , et al . General aspects and limits of conventional 5 () 1在较低的还原温度下 ,升温过程平缓 ,完全 ultrafine WC powder manufacture and hard metal production 可以制取超细钨粉 ; 还原温度越高 ,钨粉颗粒越粗 ,J . Int J of Refract Metals & Hard Materials ,1995 ,13 :28.
表明还原温度是制取超细钨粉的关键因素 。Zeiler B. The potention of conventional tungsten carbide powder 6 th () 2制取超细钨粉时 ,在条件允许的情况下应适 manufacturingA . Knerting G Wilhartitz 1Proceeding of the 14
Plansee - Seminar C . Reutte : Plansee A G , 1997 1265. 当减少装舟量 ,料层厚度应较浅 。
廖 寄 乔 , 等 . 氧 化 钨 相 成 分 对 超 细 钨 粉 均 匀 性 的 影 响 () 3在其他工艺允许的情况下 ,采用湿度较小的 7 () J . 稀有金属材料与工程 ,2001 ,30 6:4531 氢气 ,同时适当增大氢气流量 ,是制取超细钨粉的另 Bock A , et al . Grain/ particle growth of ultrafine WC during W 8 一重要措施 。 th - powder carburizationA . Proceedings of the 14 Plansee - 参考文献 : Seminar C ,Reutte : Plansee A G ,1997 14371
陶正己 . 近 10 年来钨粉和碳化钨粉的研究和开发 J . 硬 1 钟海云 ,等 . 纳米碳化钨粉的研究及应用开发动态 J . 9 () 质合金 ,1992 ,9 2:661 () 稀有金属与硬质合金 ,2001 , 2:441 阳冬元 . 蓝钨在回转还原炉中的氢还原 J . 硬质合金 , 2 赵海锋 ,等 . 纳米 WC 硬质合金制备新工艺 J . 材料科学 10 () 2000 ,17 1:161 () 与工程学报 ,2003 ,21 1:1301
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( ) compaction rate diagram J 1J Am Ceram Soc , 1990 , 73 2: ()上接第 7 页
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() 2添加一号分散剂所制备的 ITO 纳米粉末的黄 培 云 . 粉 末 冶 金 原 理 M . 北 京 : 冶 金 工 业 出 版 社 , 5 198111331 晶粒度要比使用二号分散剂的小 ,一号分散剂其细
王剑华 ,等 . 超细粉制备方法及其团聚问题 J . 昆明理 化晶粒 的 效 果 要 比 二 号 分 散 剂 优 , 两 种 分 散 剂 对 6 () 工大学学报 ,1997 ,22 1:711 ITO 纳米粉末的形貌影响不大 。 Granqvist C G1 et al1Transparent and conducting ITO films : new 参考文献 : 7 developments and applicationsJ 1Thin Solid Films ,2002 ,411 :
11 1 稀有金属与硬质 1 何小虎 ,等 . 铟锡氧化物及其应用 J Ota R1 et al1Fabrication of indium - tin - oxide films by dip () 合金 ,2003 ,31 4:511 8 coating process using ethanol solution of chlorides and surfac2 2 征茂平 ,等 . Sol - Gel 法制备有机改性硅酸盐及其掺杂复 tantsJ 1Thin Solid Films ,2002 ,411 :421 () 合光学材料研究进展 J 1 功能材料 ,2000 ,31 2:1271
Marsumoto R , et al . Analysis of powder compaction using a 3
范文五:[doc] 不下垂掺杂蓝色氧化钨的还原第一部分:文献评述
不下垂掺杂蓝色氧化钨的还原第一部分:文
献评述
?
1s
,
迅底,
色乜憨粤
不下垂掺杂蓝色氧化钨的还原
第一部分:文献评述F8哞\.1
B.
Zeiler等2e;t~LI3
摘要
本文评述了关于蓝色氧化钨的K,A1,
8i掺杂和随后的还原成金属钨丝,就掺杂过
程中的还原讨论了蓝色氧化钨的一些极好的
独特性能.简要地说明了诸如钨的中间氧化
物和的形成,含有掺杂剂的化台物反应
及其对还原动力学的影响等不同领域.
随后,通过评述还原参数和钨粉末性能
(例如晶粒尺寸和掺杂剂结合)之间的工艺
关系而探讨了掺杂剂的加入,因为这些知识
对于有效地控制工艺过程来说是最重要的.
前言
自从发现了同时存在的氧化钨K,Al,
8i掺杂(所谓的不下垂(N8)掺杂剂)对钨
丝抗高温蠕变的积极影响以来,为了改进人
们对包括在这一过程中的复杂相互作用之科
与Ni,Fe,Co相比较,它对钨的晶界粘连
更为不利.因此,可以断定,通过使用最好
的过渡金属,增强了活化烧结加工的钨的强
度.
五,结论
这次研究探索了钨通过化学墙化烧结加
工后其性能的发展结果.研究的结果始终表
明,当使用Pd,Ni,Co和Fe作潘化剂时,
在钨含量为99.5嘶的范围内出现脆性断裂.
依据强度达到最高的确况看,重要的是使用
细的,亚微细粒钨粉.添加相当于4个单分
子层的Ni作活化剂时,强度,硬度和密度
?雠?
学和技术上的认识和理解,已经进行了大量
的研究工作.将不下垂的掺杂氧化钨还原成
金属钨粉是很长生产过程中的一个工艺步
骤,在这一整个过程中,人们把伸钨酸铵
(APT)加工成高温抗蠕变的不下垂钨丝
(图1).
照明用的不下垂钨丝之所以具有杰出的一
高温下(大约2900?)抗蠕变能力,应该归
因于钾填充的气泡串所起的作用.这些气泡
以某种方式控制着再结晶过程,导致形成互
相交错的长晶粒显微组织,它使钨丝具有不
下垂性能.
往蓝色氧化钨中掺杂K,Al和8i等导致
掺杂剂相在氢气还原过程中混合到钨晶粒
内,只有这样的混合才能保证有足够的钾保
留在烧结坯料中,没有混台进去的掺杂在烧
结过程中就挥发掉了.
即使K,A1,8i等掺杂剂混合进去了,
都有着良好的改善.采用高的压制压力段有
多少益处.烧结产品的强度取决于活化剂的
类型,烧结密度,以及最终的晶粒度尽管
较高的烧结温度有助于致密化,但常常伴随
的晶粒长大又是不利的.业已发现,用Ni
作活化剂活化处理的钨坯强度要比用Pd作
活化剂活化处理的钨坯强度高得多,这是因
为使用Pd作活化剂时,沼着涂有Pd的晶界
更容易出现脆性断裂.使用Ni作活化剂,
在1200?至14OO?的烧结温度中获得了最佳
的性能.
彭运湘译
厘[】橱
圈1从仲鹤?接开持生产不下垂鹤
丝的茁明示意圈(APT.”蓝
色?化*(TBO)
Al和8i也会有所损失,因为它们在高温烧
结过程中会经由基体而扩散出去.对于慢慢
混合来说,K是太多了,所以保留下来.因为
就取得高质量的不下垂钨丝而言Al和Si是
必不可少的添加剂,但是在烧结时又挥发出
去,所以必须把它们的影响与前面的还原过
程结合起来.
在人们巳经很好地查明和从理论上解释
了钾泡形成机制及其对不下垂钨丝显微组织
影响机制的同时,一直尚未搞清楚的是,大
家普遍承认的基本原理都集中在掺杂剂于加
工过程的最初几个步骤里的作用,尤其是在
氧化钨掺杂和还原过程中.由于不下垂钨粉
的性能(例如钾的某一最低的混合)对于最终
钨丝质量具有决定性的影响,所以更加深入
地了解在蓝色氧化钨掺杂和还原过程中的相
互作用就将意味着提高生产率,降低废料损
失和获得高质量的钨丝.
原料和掺杂过程中的反应
蓝色氧化鸽
对于不掺杂的和掺杂的钨粉生产来说,
蓝色氧化钨都是最普通的原料.
蓝色氧化钨是通过仲钨酸铵的焙烧而取
得的.
5(NH.)2?0.12WO3?XH2O,
此处的X=j,7,11,或者
(NH?)loH2W12O?2?XH2O,
此处的X一4,6,10.这时要排出空气,温
度超过450?.虽然蓝色氧化钨是经常采用
的术语,但它并不代表一种成分很确定的化
合物.根据仲钨酸铵分解的温度,气氛和时
间,蓝色氧化钨所指的成分范围可能是很广
泛的,其中包括钨铵和氢钨青铜.这些化合
物可以写成(NH)HyWO.形式.除了巳
经确定的诸如WO.,WOzWO.乃至
WO:之类的氧化钨和低价氧化钨之外,还
存在非化学计量的和结构上异常的化台物形
式,利用常规的X射线粉末衍射技术不可能
确定这些化合物.
与掺杂过程无关的蓝色氧化钨特殊性能
比表面
比表面取决于APT的分解条件.业巳
取得r比表面为6—12米?克的蓝色氧化钨.
在文献中叙述过取得充分钾混合的掺杂过程
中某些最小表面的重要性和蓝色氧化钨表面
积与吸收钾数量之间的直线关系.
离子交换活-陆
与WO相反,蓝色氧化钨具有很强烈
的离子交换活性.业巳发现,K能够反应
到很大的程度,继而通过释放出等量的H
离子而降低pH值.Al”也具有反应性,但
是它比K离子薄弱100倍左右.
这些平衡状态受到掺杂过程中pH值变
化的影响.离子交换活性取决于APT的掺
杂条件,巳经发现,在400?和还原气氛下,
其离子交换活性是最大的.
.?
fB9?
青铜台量
APT掺杂条件(去除H:O和NH.)必
须以这样的途径来选择,亦即产生青铜组织
而不是单晶系的WO业已发现,280—
500?的温度是最有效的.因为钾是青铜形
成元素,所以按照推测,它将混入割青铜组
织的蓝色氧化钨化台物中,其手段是NH:的
转移,然后使之稳定化.
与这些考虑相反,铵钨青铜的晶格参数
是受其铵含量影响的,但是在掺杂过程中并
不改变,从而得出这样的结论:亦即不出现
NH,?K转变.
在图2中简明地示出了典型的掺杂过程.
一
般说来,掺杂是在两个步骤中实现的.首
先,以可溶解的硅酸钾形式进行K和8i的掺
杂J然后,以酸化的A1盐类的形式进行
铝掺杂.最后,将掺杂了的蓝色氧化钨加以
干燥,有时还要继而实行热处理.
匝
口
啊2工业采用的掺泰过程实饲
K#~Si掺杂
在WO.和蓝色氧化钨两者的掺杂中都观
察到了硅钨酸钾的形成(Kr-siwO.]和K.
[siWzO..])(其反应与以前观察到的相似).
在添加的钾中,6O咛白左右发生反应而形成上
面提到的硅钨酸盐,其K:K.一l:2.蓝色
?70?
氧化钨中的铵青铜含量愈高,达到硅钨盐之
间的平衡比例就愈快.过剩的钾形成非晶态
的硅酸钾.
Al掺杂
所有的Al都假定形成KA1Sis和/或多
硅酸盐,也有人讨论过它作为复杂的化合物
吸收到蓝色氧化钨上.
掺杂剂的分布
掺杂溶液与蓝色氧化钨的反应导致在一
定的几何形态分布中的化学吸附的结台和其
它的物理化学结合.这一分布是造成还原过
程中金属粉末粒子内掺杂剂化台物的薪散夹.
杂物的主要原因,结合到表面上的掺杂剂足
以保证以后的不下垂效应,既使利用沉淀法
分离了掺杂溶液和洗涤了掺杂氧化物时亦是?
如此.与此相反,钾作为分散的群体在APT
假晶蓝色氧化钨表面上的存在也作为掺杂剂
还原过程中混合的一种手段而讨论过.
热处理
在掺杂之后,需要把蓝色氧化钨加热到
300~350?,并且保温几个小时,这样就能
够发生化学反应,在不同的情况下,还原开
始时就发生反应,其温度和暴露时间都是不
容易控{Ii;l的.
还原过程
还原程序
业已发现,根据还原的温度和湿度,低
价氧化物排列顺序可与不掺杂的蓝色氧化钨
相比较;
WO2?WO2..卢一n一
t?00~7::0?左右(有时达到800?)
(I)
WO2?WO2.
.?WOz??WO2
--
>~2一
大约575~900?(2)
WO2mWO2.日
WO2?WO2
?口一
大约775—900?(3)
在工业实践中,还原是在两个步骤中频
繁进行的,亦即低温步骤I(65o~左右)和
高温步骤I(8oo?-?-,9oo?).在这样的条件
下,一般地都有下列程序:
步骤IlTBO?WO2+卢一+
步骤IIWO2+芦L+口4峥口一
在不下垂蓝色氧化钨还原过程中,观察
到了在比较高温度下的中间卢一形成,其
夹杂物比不掺杂的蓝色氧化钨高一些.掺杂
剂(尤其K和A1)的稳定化作用教人们说
成是这一行为的原因.卢一形成的原因还
没有搞清楚.在不掺杂的蓝色氧化钨还原过
程中,卢一较早地出现在还原过程中(反应
为WO...卢一)J而在掺杂蓝色氧化钨
的精况下,卢一出现在大约WO还原阶段
(所谓的二次卢一).由于组织上的原因,
WO将反应生成a一而不是卢一.除了
K,W青铜之外,一些建议都说明了卢一
形成.有人还论述了通过与WO反应,因
而消耗WO:重新形成青铜的循环过程,但
是形成的是没有青铜的一.
在掺杂过程中形成的硅钨酸钾(Ke
[SiWO.],K.ESiWzO..])还碌成为钨酸
钾(K?W3O1o,K2WO4),口一?和卢一,
人们还论述过中间K,W青铜的形成.这些
化合物中的硅作为非晶态的SiO保留下来.
KW青铜或者还原形成?一和K
WO.,或者继续存在较低温度下的还原过程.
在低于700?的温度下,发现了非常少量的
(O.1重量%)四方晶系的钨青铜(K..WO.),
既使在最终的还原金属钨粉中亦是如此.应
该避免形成具有高钾台量的K.W青铜的广
泛产物(K..sWO.和K….WO.),因为它会
导致局部的钾富集.可以借助于诸如SiO
之类的酸性化台物和多钨酸盐来达到这一作
用的抑制.
在最终产生的钨粉中或多或少地保留着
KWO..只有在比较高的温度下和非常低
的Hz湿度条件下,才有可能使钾(作为K或
者KOH)还原(仅仅成为口一)和挥发.
钾和钾铝硅酸盐都不受还原的影响.
还原动力学
在文献中报道过关于掺杂剂对蓝色氧化
钨还原速度的部分矛盾的结果
催化作用
在用干燥的氢气(露点为一40?)于
700?温度下还原5毫米厚的粉柬层时,掺杂
的蓝色氧化钨比不掺杂的蓝色氧化钨还原得
更快一些,这一催化作用在1.5毫米料层的
还原时就消失了.如果采用涅氢(露点为+
50?),那么掺杂蓝色氧化钨的还原速度几乎
不受影响,而不掺杂蓝色氧化钨的还原则显
然地停滞下来了.所以能够得出结论.在还
原过程中,掺杂剂对于水蒸气的抑制作用不
太敏感,因此显示出在5毫米料层中的比较强
烈的影响}在这里,水的去除比在1.5毫米
料层中慢一些.
在800”-..1000?温度范围内,不下垂掺
杂WO.比纯净~WO.还原得更快一些.据
观察,在掺杂WO.的情况下,中间出现的
低价氧化物是比较细小的J事实证明,这也
是催化作用造成的,可以莉用相边界控制着
还原机制来加以说明.
业已发现,在620”-..860?温度范围内和
接近工业条件下,掺杂剂具有明显的催化作
用,尤其是在氧台量低于1O%的还原阶段
里.
事实表明,与不掺杂的蓝色氧化钨相
比,由出现液相引起的还原速度提高(钨酸
钾恰好在800?左右熔化)具有明显的差
别.
抑制作用
在低于900?的温度下,采用0.6毫米厚
的粉末层和高的氢气流速(O.米/秒),不下
垂的掺杂蓝色氧化钨还原速度比不掺杂的蓝
色氧化钨低一些.在900?温度下,两者』无
需要的总还原时间是相同的.
借助于原位高温X射线衍射分杼方法取
得了类似的结果.在温度低于830?时,掺杂
剂抑制还屠io正如人们已经报道过的那样,
掺杂剂妨碍氢气与低价氧化钨发生反应,这
??7.?
是由于形成了阻挡层,从而抑制还原.
关于掺杂荆混合的理论
涉及到不下垂掺杂蓝色氧化钨还原的悬
而未决的问题之一是掺杂剂(K,A1,Si)
在还原过程里怎么样地混合到了钨晶粒中.
不同的作者提出了各自的理论,他们全都把
这种行为与在还原过程中出现的某种中间物
联系在一起了.下面将列举出这些中间物,
并且简要地说明了它们的作用.
——一:这是一种人们时常提到的,
造成掺杂剂混入的中间形式的化合物,已经
报道过其作用的不同可性能.
?
钨原子在卢一口一转变过程中
的高迁移率使掺杂剂容易被截留下来.论述
了被转变活化成一的卢一微小粒子的
共同烧结及其所造成的掺杂剂夹杂物.
?
卢一形成引起在还原的早期阶段里
一
晶粒周围的口一生长,混入掺杂剂
或者它们的衍生物.
?
由于假设的掺杂剂在卢一中的可溶
性,它们掺入了晶格中,既使在卢一转化
成口一之后也保留下来,并且形成高度应
变的一晶体.围绕着卢一晶体的含有
液体掺杂剂相的形成(存在KW.O.和
K.SiW:O.o的结果)有助于掺杂剂混合.
——
钾钨青铜t人们主要地把它看作是
所形成的卢一增加的原因(p-能够含有
更多的钾).也有人讨论过由口一p盏成的青
铜过分生长.
——
KA18i.O.I这种化合物是在掺杂
过程中形成的,并且不受还原的影响.处在
最终还原钨晶粒之间颈部的部分被人们称作
“混合掺杂物.
掺杂剂的独立群体及其在掺杂蓝色氧化
钨表面上的存在都为早期的娉晶体形成提供
了核心位锚.在钨晶体通过气相而进一步长
大的过程中,出现了这些群体的截留.
工艺特性曲线
关于掺杂过程,还原参数和最终还原钨
?72?
粉性能之间的,关于工艺知识对于有效的过
程控制来说是特别重要的.通常用于不下垂
钨粉的质量判据是I
——
作为FSSS值测得的晶粒尺寸,典
型地处于3—5微米范围内.
——
通过酸洗钨粉的分析而确定的掺杂
剂混合,一般情况下是100,--,160ppmK,一
60ppmAl和,-,~2OOppmSi.
在工业实践条件下,酸洗钨粉的钾分析
是一种快速方法}人们之所以做这样的选
择,乃是因为它对于进一步加工的适用性.
一
般说来,在酸冼钨粉中的钾含量和烧结坯
条的钾含量之同存在直线关系(图3).
圈5盒一鹤嚣中K含量与旃结坯条
中钾含?之阃的关系
分析结果表明,钨粉中的K有60呖保留
在烧结坯条内,其损失可以忽略不计}这
样,在最终的拉伸和退火钨丝中也有60呖的.
K存在着.
也有报道说,烧结过程中钾损失是非常
大的(由酸洗粉束中的7oo,-,~9o0ppm减少
到40-.,-7oppm,只有6呖保留在烧成的坯条
内),这表明洗涤很不充分(原始的K含量
太高,在金属粉末中只有假混合),而不是
真正混合到钨晶粒中K的实际损失.
下面,我们讨论一下达到上述粉末性能
的可能性.
晶舡尺寸
一
般说来,与不掺杂的钨粉相比,掺杂
剂增大了钨粒子的平均尺寸.人们已经发
现,K或者K/Si添加剂强烈地促使晶粒长
大,而添加Al掺杂剂则在一定程度上减弱
了晶粒的生长.图4表明了这些作用,从此
图中还可以很好地了解提高还原温度对晶粒
长大所产生的促进作用.
圈4平均?缱尼寸与掺杂和匿曩量
度的关系
棒杂剂混合
在文献中报道了许多叁数,它们都影响
还原过程中的掺杂剂(尤其是K)的混合.
—一
Al掺杂剂的增加导致K混台的提
高(参见图5和图6).掺杂的铝愈多,中间X
射线强度比,一,I一愈高(图7).这就说
明,中间形式的卢一是K混台比较高的?原
因,但是,有人提到,超过o.15啪的铝掺杂
是有害的.
宝
_
讯
圈5AhOs嚣加荆对梁用了不同还厦
工艺越穗的?橐舸浞合的嚣一
18o
差l抽
嚣m
Y?oe,,
趵e.一.,.,
o?02n04-o.0,6O.oa
蛊雹?勘.AIz
田6AI03嚣加荆和K混合之闻的关系
圈7X射艘比一w/nm.W和K混合之
间的关系
——
两步还原,在低温下(550~660?)
进行的第一步还原导致深黄色的氧化物,而
在高温下(660~800”C)进行的第二步还原
则导致形成金属钨J据报道,这是田为与在
高温下(730~,.-850?,图5)的单一步骤的还
原相比,其掺杂剂混合得更多一些.第一步
骤温度的变化显示出在600”~700?之间的最
佳K混合(图8).深黄色氧化物中的卢一
台量作为第一步温度的函数而变化,它与掺
杂剂混合的关系如图9所示.
——
除了第一步骤的温度之外,所取得
的深黄色氧化物之氧含量也是重要的.氧含
量愈低,掺杂剂混台得愈多.
——
具有不伺表面积的低价氧化钨掺杂
剂揭示出,,7米/克的最小表面积是混合
7S
.
睡祷x
翻
螂
4oo细8oo
蒡一研强瑚丧(?)
圈8混合与第一个还原步?的关系
圈9掺杂剂混合与在第一个还原步?
之后取佴的舔冀色?化物中一含量
的关系(第一步?的疆虞如圈所录)
圈1O第一十还曩步?的舔冀色?化
??吉?对?囊瘌勰台的辱一
?-74??
超过100ppm的K所必须的.
上述的大多数技术数据意味着卢一形
成(数量和稳定性)的影响,换句话说,它
们决定着比较高的掺杂剂混合,关于这一关
系,甚至巳经有了获得专利权的文献.
结论
为了获得和协调包括在还原过程中的许
多关系,在第8届国际普兰西研讨会上曾经
有一系列的报告讨论得出了下述一些人们公
认的基本观念.
掺杂剂溶液进入了强烈黾裂的钨氧化物
晶体中.在氢气还原过程中,当钨晶体形成
和生长的时候,一部分掺杂剂被包在这些晶
体中J在这种状态下,它不太受洗涤过程中
HF的影响}因此,这一部分掺杂剂保留在
钨晶体内,或者处在钨晶体团块的晶粒边界
上.
但是,这一基本观念对于涉及到不下垂
还原工艺的所有方面来说是不充分的,尤其
是K,Al和8i为什么排他地结台问题,不影
响到钾混合是那么有效.
现在巳经有了关于掺杂和还原过程细节
的大量信息,这主要是由包括一,二种掺杂
元素的模型系统研究所得到的.但是,这并
非总能够与工业过程联系起来.这?系统的
行为总的说来是此所观察到的单独作用的直
接结合所能够叙述的更加复杂一些.
另一方面,在接近工业试验过程中发现
的一些关系往往不能够像通常所做那样简单
地加以理解.例如,在两步还原过程中第一
步还原温度的变化对掺杂剂混合的影响《图
8).由于习惯上只有一个参数将要立刻发生
变化,第一步的暴露时间保持不变J换句话
说,它会导致”深黄色氧化物,后者具有强
烈偏移的氧含量.在这种情况下,不可能确
定究竟是第一步还原温度的变化(图8)还是
深黄色氧化物的不用氧含量是在掺杂剂混台
方面观察到的各种作用的原因.
我们查明K,Al,Si,W,O和(N,
{
r
?l
.喜
々
一E是u科旬
簏镑羲.意
?
1,71
耠,
烷皓,低温
低温机械处理对钼粉末烧结的影响
E.
.11.ApHHHHHa等
经受了低温机械处理的金属粉末与标准
的粉末有所不同,它们不仅具有更高的,取
决于弥散现象的过剩表而能数值,而且具有
与其结晶晶格形状和组织状态特点有关的许
多均匀的和不均匀的性能.这些性能大大地
影响着粉末娆结时的物质转移过程机制和动
力学,其中包括决定着它们黪胀的独有性
能.
在文献”中巳经论述过经受了低温机械
处理的铜粉末压制坯料烧结时观察到的膨胀
效应.业巳确定,粉粒的非异构性和弯曲度
及其具有重大意义的分散性引起了各向异性
现象,压制坯料速度和膨胀符号的变化.本
文给出了钼粉末压制坯料膨胀的研究结果.
采用牌号为M(TYBM一—240-54)的
标准钼粉作为原料,低温机械处理是在特殊
结构的设备上于一196?温度下进行的.运
A.,几
-F宫乓1乙
用氮的低温吸附作用方法测定的原始粉末比
表面为1.4米/克,而低温处理了的粉柬比
表面则为3.2米/克.错助光栅电子显微镜
研究了粉粒的几何形状,尺寸和组织状态.
分析表明,原始粉末的平均颗粒尺寸为0—
15微米粉粒的比表面和平均尺寸之间不相
符合的原因是,在其表面上存在不同种类的
异变和显微粗糙度,电子显微镜观察证实了
这一点(图1,a).低温机械处理的结果是,
粉粒的平均尺寸减小到1—2微米,而其表面
则变得比原始粉末更加扁平和光糟(图l,
6).
借助于X射线方法研究了烧结过程中粉
粒体积的组织状态及其在烧结过程中缺陷性
程度的变化.分析了在~POH-YM一1设备
上观察到的(n0)和(220)谱线实际上物理加
宽的数据,从中可以取得关于X射线相干漫
圈1钼册柱在原始状态下(a)和低疆机镰赴理之詹(6)的电子丑徽镜
黑片
放大倍数分别为4oo(a)和7000(6)
H)系统的现状是以这样的事实为特点,亦
即它们一般来说有效的基本观念那么简单地
用在工业生产实践中J同时,太详述的一些
概念又在系统的复杂性中失掉了.
参考文献(从略)
本刊编辑部译自《RM&HM》,10(2)
1991,S3,,-9口.
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